
Máy quang phổ huỳnh quang tia X (XRF) là một thiết bị tia X được sử dụng để phân tích hóa học thường quy, tương đối không phá hủy đá, khoáng chất, trầm tích và chất lỏng. Nó hoạt động trên các nguyên lý quang phổ phân tán bước sóng.
EDX8800H hấp thụ tất cả các ưu điểm của dòng EDX và được trang bị thêm hệ thống chân không, do đó mở rộng phạm vi thử nghiệm, cải thiện giới hạn phát hiện và tăng cường tính ổn định của dữ liệu.
Tính năng sản phẩm:
1. Máy dò bản nháp silicon nhập khẩu từ Mỹ với độ phân giải năng lượng cao hơn giúp cải thiện đáng kể khả năng phát hiện.
2. Giới hạn của các thành phần ánh sáng cao hơn 100 lần so với máy dò Si-pin. Phạm vi đo rộng hơn, gần như có thể đáp ứng các yêu cầu phân tích thành phần của tất cả các vật liệu thông thường.
3. Hệ thống xử lý tích hợp dữ liệu nhập khẩu từ Mỹ giúp thu thập dữ liệu nhanh hơn, phép đo ổn định hơn với khả năng lặp lại tuyệt vời và độ ổn định lâu dài.
4. Phần mềm cập nhật tích hợp nhiều phương pháp tính toán hình ảnh giúp phép đo dữ liệu chính xác và ổn định hơn.
5. Phần mềm giám sát đầy đủ các bộ phận cốt lõi đang chạy đảm bảo hoạt động an toàn.
6. Hệ thống chân không chuyên dụng mang lại hiệu suất chân không tốt hơn và kết quả thử nghiệm tuyệt vời.
| Các yếu tố có thể đo lường | Na-U |
| Nội dung phần tử | 1ppm-99,99% |
| Giới hạn phát hiện | 1 phần triệu |
| Thời gian đo lường | 60-200 giây (có thể điều chỉnh) |
| Quyền lực | AC220±5V |
| Dòng điện đầu ra tối đa của ống tia X | 1mA |
| Áp suất cực đại | 6,7×10-2Pa |
| Kích thước buồng mẫu | 610*320*100(mm) (Không có chân không)/Φ100*h75(mm) (Chân không) |
| Độ ổn định làm việc lâu dài (tùy thuộc vào mẫu chuẩn) | ±0,05% (hàm lượng cao) /±0,002% (hàm lượng vi mô) |
| Độ lặp lại tuyệt vời (tùy thuộc vào mẫu chuẩn) | 0,06%((hàm lượng cao)/±0,0025%(hàm lượng vi mô) |

Đánh giá
Chưa có đánh giá nào.